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等离子增强 CVD(PECVD)

OTF-1200X-II-PEC4SL-LD 滑动多温区 PECVD 工作站

型号OTF-1200X-II-PEC4SL-LD

一体化 PECVD 工作站结合滑动加热区、四路质量流量供气和真空抽气。炉管直径和温区数量取决于所选配置。

连续工作温度 1100 °C
炉管与温区选项 外径 50/80 mm:2 温区;外径 130 mm:3 温区
射频等离子源 5–300 W; 13.56 MHz
  • 报价前确认最终配置
  • 根据应用确认定制和附件
  • 可按需提供出口包装与文件
技术数据

技术规格

规格按系统分组,便于不同设备展示与其应用相关的重要参数。

主要参数

连续工作温度 1100 °C
炉管与温区选项 外径 50/80 mm:2 温区;外径 130 mm:3 温区
射频等离子源 5–300 W; 13.56 MHz
气流控制 4 路 MFC;±1.5% FS
系统真空度 约 10^-2 Torr

规格可能随配置和定制要求变化,最终数据以确认后的报价为准。

产品详情

订购前请与 LabSova 确认前驱体或样品兼容性、炉管及法兰配置、气体、抽气、冷却、排风和供电要求。图片可能包含选配附件,供货以双方确认配置为准。温度额定值不代表该温度下允许任意真空或压力条件。