设备分类
原子层沉积（ALD）
用于薄膜和粉末包覆的热 ALD 与等离子辅助 ALD 系统。
4 个可选产品
OTF-1200X-ALD 等离子辅助管式原子层沉积炉
ALD-800X-4-PE 旋转样品台等离子原子层沉积系统
ALD-1200X-R-4 旋转管式原子层沉积炉
ALD-1200X-4 双温区管式原子层沉积系统
如何比较这个分类
先明确工艺需求，再比较工作范围、腔体或工作尺寸、控制精度、附件、公用条件和运输限制。
- 确认材料、样品尺寸和目标结果。
- 检查电压、安装空间和公用条件要求。
- 确认附件、备件、包装和文件范围。