原子层沉积（ALD）
ALD-1200X-4 双温区管式原子层沉积系统
型号ALD-1200X-4
4 英寸管式 ALD 系统，采用独立控温双温区、快速供给阀和四路气体控制，便于研究受控前驱体暴露工艺。
连续工作温度
1100 °C
加热区
2 × 200 mm；同温设定下均温区 250 mm
ALD 供给阀
2 个阀；最短脉冲 10 ms
- 报价前确认最终配置
- 根据应用确认定制和附件
- 可按需提供出口包装与文件
技术数据
技术规格
规格按系统分组，便于不同设备展示与其应用相关的重要参数。
主要参数
| 连续工作温度 | 1100 °C |
|---|---|
| 加热区 | 2 × 200 mm；同温设定下均温区 250 mm |
| ALD 供给阀 | 2 个阀；最短脉冲 10 ms |
| 气流控制 | 4 路质量流量控制；±0.2% FS |
| 炉体供电 | 208–240 V AC，单相；4 kW |
规格可能随配置和定制要求变化，最终数据以确认后的报价为准。
产品详情
订购前请与 LabSova 确认前驱体或样品兼容性、炉管及法兰配置、气体、抽气、冷却、排风和供电要求。图片可能包含选配附件，供货以双方确认配置为准。温度额定值不代表该温度下允许任意真空或压力条件。
采购细节可在下单前确认。
确认需求
面向国际买家，报价确认可包含配置、附件、包装方式、出口文件、验货照片或视频以及运输条款。
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