原子层沉积（ALD）
ALD-1200X-R-4 旋转管式原子层沉积炉
型号ALD-1200X-R-4
旋转石英管 ALD 炉，面向粉末包覆研究，结合脉冲前驱体供给、四路质量流量控制及可编程加热。
连续工作温度
1100 °C
炉管与转速
4 英寸石英管；0–10 rpm
ALD 供给阀
2 个阀；最短脉冲 10 ms
- 报价前确认最终配置
- 根据应用确认定制和附件
- 可按需提供出口包装与文件
技术数据
技术规格
规格按系统分组，便于不同设备展示与其应用相关的重要参数。
主要参数
| 连续工作温度 | 1100 °C |
|---|---|
| 炉管与转速 | 4 英寸石英管；0–10 rpm |
| ALD 供给阀 | 2 个阀；最短脉冲 10 ms |
| 气流控制 | 4 路质量流量控制；6 英寸触摸屏 |
| 炉体供电 | 208–240 V AC，单相；最大 4 kW |
规格可能随配置和定制要求变化，最终数据以确认后的报价为准。
产品详情
订购前请与 LabSova 确认前驱体或样品兼容性、炉管及法兰配置、气体、抽气、冷却、排风和供电要求。图片可能包含选配附件，供货以双方确认配置为准。温度额定值不代表该温度下允许任意真空或压力条件。
采购细节可在下单前确认。
确认需求
面向国际买家，报价确认可包含配置、附件、包装方式、出口文件、验货照片或视频以及运输条款。
相关设备
