设备分类
化学气相沉积（CVD）
用于沉积研究的管式炉、雾化 CVD 系统及前驱体供给设备。
29 个可选产品
OTF1200XSF2 紧凑型双路气体 CVD 管式炉
OTF-1200X-S-Mist 紧凑型超声雾化 CVD 炉
OTF-1200X-Mist 四路气体雾化 CVD 生长炉
OTF1200XIII-PGEP 三温区超声喷雾热解系统
OTF-1200X-PGEP 管式炉喷雾热解系统
GSL-1800X-PGEP 高温喷雾热解炉
OTF-1200X-4-NW-UL 固态前驱体 CVD 管式炉
OTF-1200X-HVC3-series 高真空 CVD 炉工作站
OTF-1200X-80-F3LV 单温区混气 CVD 管式炉
OTF-1200X-II-F3LV 双温区三路供气 CVD 炉
OTF-1200X-III-80-F3LV 三温区混气 CVD 管式炉
OTF-1200X-III-HVC-LD 三温区高真空 CVD 工作站
如何比较这个分类
先明确工艺需求，再比较工作范围、腔体或工作尺寸、控制精度、附件、公用条件和运输限制。
- 确认材料、样品尺寸和目标结果。
- 检查电压、安装空间和公用条件要求。
- 确认附件、备件、包装和文件范围。