Categoria de equipamento
Deposição química de vapor (CVD)
Fornos tubulares, sistemas CVD por névoa e equipamentos de alimentação de precursores.
29 produtos disponíveis
OTF1200XSF2 Compact Two-Gas CVD Tube Furnace
OTF-1200X-S-Mist Compact Ultrasonic Mist CVD Furnace
OTF-1200X-Mist Four-Gas Mist CVD Growth Furnace
OTF1200XIII-PGEP Three-Zone Ultrasonic Spray Pyrolysis System
OTF-1200X-PGEP Tube-Furnace Spray Pyrolysis System
GSL-1800X-PGEP High-Temperature Spray Pyrolysis Furnace
OTF-1200X-4-NW-UL Solid-Precursor CVD Tube Furnace
OTF-1200X-HVC3-series High-Vacuum CVD Furnace Workstation
OTF-1200X-80-F3LV Single-Zone CVD Furnace with Gas Mixer
OTF-1200X-II-F3LV Dual-Zone CVD Furnace with Three-Gas Control
OTF-1200X-III-80-F3LV Three-Zone CVD Furnace with Gas Mixing
OTF-1200X-III-HVC-LD Three-Zone High-Vacuum CVD Workstation
Como comparar esta categoria
Comece pelo requisito de processo e compare faixa operacional, tamanho da câmara ou área de trabalho, precisão, acessórios, utilidades e restrições de envio.
- Confirme material, tamanho da amostra e resultado alvo.
- Verifique tensão, espaço de instalação e utilidades.
- Solicite acessórios, peças sobressalentes, embalagem e documentação.