Categoria de equipamento
Deposição química de vapor (CVD)
Fornos tubulares, sistemas CVD por névoa e equipamentos de alimentação de precursores.
29 produtos disponíveis
GSL-1100X-8.5-III-SR Large-Bore Three-Zone CVD Furnace
OTF-1200X-4-III-9HV Nine-Gas High-Vacuum CVD Furnace
OTF-1200X-S-50-DFSL Dual-Sliding Thermal CVD Furnace
OTF-1200X-III-HPCVD-S3 Three-Zone Hybrid Deposition Furnace
OTF-1200X-80-F3LV-PTFE Corrosion-Resistant CVD Furnace System
OTF-1200X-III-RR Roll-to-Roll CVD Film-Growth Furnace
GSL-1100X-III-D11 Large-Area Dual-Tube Graphene CVD Furnace
OTF-1200X-II-80HG-UL Humidity-Controlled CVD Tube Furnace
MIST-1600-6 Induction-Heated Mist LPCVD Reactor
GSL-1600X-CFM Continuous Carbon Nanotube Mist CVD System
OTF-1200X-III-5-C3LVSF Sliding-Flange Three-Zone CVD Furnace
GSL-1700X-PRY-UL-LD High-Temperature Vacuum-Regulated Tube Furnace
Como comparar esta categoria
Comece pelo requisito de processo e compare faixa operacional, tamanho da câmara ou área de trabalho, precisão, acessórios, utilidades e restrições de envio.
- Confirme material, tamanho da amostra e resultado alvo.
- Verifique tensão, espaço de instalação e utilidades.
- Solicite acessórios, peças sobressalentes, embalagem e documentação.