Gerätekategorie
Chemische Gasphasenabscheidung (CVD)
Rohröfen, Mist-CVD-Anlagen und Präkursorversorgung für die Beschichtungsforschung.
29 verfügbare Produkte
GSL-1100X-8.5-III-SR Large-Bore Three-Zone CVD Furnace
OTF-1200X-4-III-9HV Nine-Gas High-Vacuum CVD Furnace
OTF-1200X-S-50-DFSL Dual-Sliding Thermal CVD Furnace
OTF-1200X-III-HPCVD-S3 Three-Zone Hybrid Deposition Furnace
OTF-1200X-80-F3LV-PTFE Corrosion-Resistant CVD Furnace System
OTF-1200X-III-RR Roll-to-Roll CVD Film-Growth Furnace
GSL-1100X-III-D11 Large-Area Dual-Tube Graphene CVD Furnace
OTF-1200X-II-80HG-UL Humidity-Controlled CVD Tube Furnace
MIST-1600-6 Induction-Heated Mist LPCVD Reactor
GSL-1600X-CFM Continuous Carbon Nanotube Mist CVD System
OTF-1200X-III-5-C3LVSF Sliding-Flange Three-Zone CVD Furnace
GSL-1700X-PRY-UL-LD High-Temperature Vacuum-Regulated Tube Furnace
So vergleichen Sie diese Kategorie
Beginnen Sie mit der Prozessanforderung und vergleichen Sie dann Arbeitsbereich, Kammer- oder Werkstückgröße, Regelgenauigkeit, Zubehör, Medienversorgung und Versandgrenzen.
- Material, Probengröße und Zielergebnis bestätigen.
- Spannung, Installationsfläche und Medienbedarf prüfen.
- Zubehör, Ersatzteile, Verpackung und Dokumentationsumfang anfragen.