MIST-1600-6 Induction-Heated Mist LPCVD Reactor
A quartz-chamber deposition reactor with an induction-heated graphite stage for high-temperature thin-film growth on wafers up to 6 inches.
- Endkonfiguration vor Angebot bestätigt
- Anpassung und Zubehör nach Anwendung geprüft
- Exportverpackung und Dokumentation auf Anfrage verfügbar
Technische Spezifikationen
Spezifikationen sind nach System organisiert, damit unterschiedliche Gerätetypen die für ihre Anwendung relevanten Parameter darstellen können.
Key specifications
| Operating temperature | 1500 °C working; 1600 °C for <1 h |
|---|---|
| Wafer capacity | Up to 6 in |
| Quartz chamber | 216 mm OD x 500 mm H |
| Induction supply | 15 kW; 30–100 kHz |
| Heated precursor vessel | 100 mL; up to 150 °C |
Spezifikationen können sich je nach Konfiguration und Anpassung ändern. Endgültige Daten unterliegen dem bestätigten Angebot.
Produktbeschreibung
Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.
Für internationale Käufer kann die Angebotsbestätigung Konfiguration, Zubehör, Verpackung, Exportdokumente, Inspektionsfotos oder -videos und Versandbedingungen umfassen.
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