MIST-1600-6 Induction-Heated Mist LPCVD Reactor
A quartz-chamber deposition reactor with an induction-heated graphite stage for high-temperature thin-film growth on wafers up to 6 inches.
- Configuración final confirmada antes de cotizar
- Personalización y accesorios revisados según la aplicación
- Embalaje de exportación y documentación disponibles bajo solicitud
Especificaciones técnicas
Las especificaciones se organizan por sistema para que diferentes tipos de equipos presenten los parámetros relevantes para su aplicación.
Key specifications
| Operating temperature | 1500 °C working; 1600 °C for <1 h |
|---|---|
| Wafer capacity | Up to 6 in |
| Quartz chamber | 216 mm OD x 500 mm H |
| Induction supply | 15 kW; 30–100 kHz |
| Heated precursor vessel | 100 mL; up to 150 °C |
Las especificaciones pueden cambiar según configuración y personalización. Los datos finales están sujetos a la cotización confirmada.
Descripción del producto
Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.
Para compradores internacionales, la confirmación puede incluir configuración, accesorios, embalaje, documentos de exportación, fotos o videos de inspección y términos de envío.
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