OTF-1200X-4-NW-UL Solid-Precursor CVD Tube Furnace
A split-tube CVD furnace with a separate solid-source heater and multiple gas inlets for nanowire and thin-film growth experiments.
- Configuración final confirmada antes de cotizar
- Personalización y accesorios revisados según la aplicación
- Embalaje de exportación y documentación disponibles bajo solicitud
Especificaciones técnicas
Las especificaciones se organizan por sistema para que diferentes tipos de equipos presenten los parámetros relevantes para su aplicación.
Key specifications
| Operating temperature | 200–1000 °C continuous; 1100 °C for <2 h |
|---|---|
| Quartz tube | 110 mm OD x 103 mm ID x 740 mm L |
| Heating zone | 440 mm; uniform zone 100 mm |
| Sample holder | 3 in |
| Temperature program | 30 segments; ±1 °C |
Las especificaciones pueden cambiar según configuración y personalización. Los datos finales están sujetos a la cotización confirmada.
Descripción del producto
Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.
Para compradores internacionales, la confirmación puede incluir configuración, accesorios, embalaje, documentos de exportación, fotos o videos de inspección y términos de envío.
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