OTF-1200X-4-NW-UL Solid-Precursor CVD Tube Furnace
A split-tube CVD furnace with a separate solid-source heater and multiple gas inlets for nanowire and thin-film growth experiments.
- يتم تأكيد التكوين النهائي قبل عرض السعر
- تتم مراجعة التخصيص والملحقات حسب التطبيق
- تتوفر تعبئة التصدير والوثائق عند الطلب
المواصفات الفنية
تُنظم المواصفات حسب النظام حتى تعرض أنواع المعدات المختلفة المعايير المهمة لتطبيقها.
Key specifications
| Operating temperature | 200–1000 °C continuous; 1100 °C for <2 h |
|---|---|
| Quartz tube | 110 mm OD x 103 mm ID x 740 mm L |
| Heating zone | 440 mm; uniform zone 100 mm |
| Sample holder | 3 in |
| Temperature program | 30 segments; ±1 °C |
قد تتغير المواصفات حسب التكوين والتخصيص. تخضع البيانات النهائية للعرض المؤكد.
وصف المنتج
Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.
للمشترين الدوليين، يمكن أن يشمل تأكيد العرض التكوين والملحقات وطريقة التعبئة ومستندات التصدير وصور أو فيديو الفحص وشروط الشحن.