OTF-1200X-4-NW-UL Solid-Precursor CVD Tube Furnace
A split-tube CVD furnace with a separate solid-source heater and multiple gas inlets for nanowire and thin-film growth experiments.
- Финальная конфигурация подтверждается до предложения
- Настройка и аксессуары проверяются по применению
- Экспортная упаковка и документация доступны по запросу
Технические спецификации
Спецификации организованы по системам, чтобы разные типы оборудования показывали важные для применения параметры.
Key specifications
| Operating temperature | 200–1000 °C continuous; 1100 °C for <2 h |
|---|---|
| Quartz tube | 110 mm OD x 103 mm ID x 740 mm L |
| Heating zone | 440 mm; uniform zone 100 mm |
| Sample holder | 3 in |
| Temperature program | 30 segments; ±1 °C |
Спецификации могут изменяться в зависимости от конфигурации и настройки. Окончательные данные зависят от подтвержденного предложения.
Описание товара
Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.
Для международных покупателей подтверждение может включать конфигурацию, аксессуары, упаковку, экспортные документы, фото или видео инспекции и условия доставки.
Больше из этой категории
OTF1200XSF2 Compact Two-Gas CVD Tube Furnace
OTF-1200X-S-Mist Compact Ultrasonic Mist CVD Furnace
OTF-1200X-Mist Four-Gas Mist CVD Growth Furnace
OTF1200XIII-PGEP Three-Zone Ultrasonic Spray Pyrolysis System
OTF-1200X-PGEP Tube-Furnace Spray Pyrolysis System
GSL-1800X-PGEP High-Temperature Spray Pyrolysis Furnace
OTF-1200X-HVC3-series High-Vacuum CVD Furnace Workstation
