Категория оборудования
Плазмохимическое осаждение (PECVD)
Плазменные трубчатые печи, вращающиеся системы для порошков, реакторы для пластин и ВЧ-источники.
12 доступных продуктов
OTF-1200X-II-PEC4 Rotary Plasma-Enhanced Hybrid CVD Furnace
OTF-1200X-S50-PESL Compact Sliding PECVD Tube Furnace
OTF-1200X-S-II-PECVD Compact Rotary Powder PECVD Furnace
OTF1200XSDFPESL Dual-Sliding PECVD Deposition Furnace
OTF-1200X-II-50-PEMSL Auto-Sliding PECVD Furnace with Preheater
OTF-1200X-II-PEC4SL-LD Sliding Multi-Zone PECVD Workstation
OTF-1200X-PEC4LV Four-Gas PECVD Tube Furnace
OTF-1200X-III-R5-PECVD Continuous-Feed Rotary Powder PECVD Furnace
OTF-1200X-S-II-PEC4 Compact Rotary Hybrid Plasma CVD System
OTF-1200X-II-PE-RR Roll-to-Roll Plasma CVD Furnace
PECVD-8-16 Batch Wafer PECVD Pilot System
OTF-PECVD-RF RF Plasma Generator for Tube Furnaces
Как сравнивать эту категорию
Начните с процесса, затем сравните рабочий диапазон, размер камеры или рабочей зоны, точность управления, аксессуары, коммуникации и ограничения доставки.
- Подтвердите материал, размер образца и целевой результат.
- Проверьте напряжение, место установки и требования к коммуникациям.
- Уточните аксессуары, запчасти, упаковку и комплект документов.