設備カテゴリ
プラズマCVD（PECVD）
プラズマ管状炉、回転式粉末処理装置、ウェハー反応器、RF電源。
12 件の製品
OTF-1200X-II-PEC4 Rotary Plasma-Enhanced Hybrid CVD Furnace
OTF-1200X-S50-PESL Compact Sliding PECVD Tube Furnace
OTF-1200X-S-II-PECVD Compact Rotary Powder PECVD Furnace
OTF1200XSDFPESL Dual-Sliding PECVD Deposition Furnace
OTF-1200X-II-50-PEMSL Auto-Sliding PECVD Furnace with Preheater
OTF-1200X-II-PEC4SL-LD Sliding Multi-Zone PECVD Workstation
OTF-1200X-PEC4LV Four-Gas PECVD Tube Furnace
OTF-1200X-III-R5-PECVD Continuous-Feed Rotary Powder PECVD Furnace
OTF-1200X-S-II-PEC4 Compact Rotary Hybrid Plasma CVD System
OTF-1200X-II-PE-RR Roll-to-Roll Plasma CVD Furnace
PECVD-8-16 Batch Wafer PECVD Pilot System
OTF-PECVD-RF RF Plasma Generator for Tube Furnaces
このカテゴリの比較方法
まずプロセス要件を明確にし、動作範囲、チャンバーまたは作業サイズ、制御精度、付属品、ユーティリティ、輸送制約を比較します。
- 材料、サンプルサイズ、目標結果を確認します。
- 電圧、設置スペース、ユーティリティ要件を確認します。
- 付属品、予備部品、梱包、書類範囲を確認します。