プラズマCVD（PECVD）
OTF-PECVD-RF RF Plasma Generator for Tube Furnaces
モデルOTF-PECVD-RF
An RF generator and matching assembly for adding plasma processing to compatible tube furnaces, supporting laboratory etching, cleaning and plasma-assisted deposition.
Output power
5–300 W; ±1% stability
RF frequency
13.56 MHz; ±0.005% stability
Impedance matching
Automatic
- 最終構成は見積前に確認
- 用途に応じてカスタムと付属品を確認
- 輸出梱包と書類は必要に応じて対応
技術データ
技術仕様
仕様はシステム別に整理され、設備タイプごとに重要なパラメータを表示します。
Key specifications
| Output power | 5–300 W; ±1% stability |
|---|---|
| RF frequency | 13.56 MHz; ±0.005% stability |
| Impedance matching | Automatic |
| Tube diameter options | 50, 80 or 125 mm OD |
| Power supply | 208–240 V AC; 50/60 Hz |
仕様は構成やカスタム内容により変更される場合があります。最終データは確認済み見積に従います。
製品説明
Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.
発注前に調達条件を確認できます。
要件を確認
海外購入者向けに、構成、付属品、梱包方法、輸出書類、検査写真または動画、出荷条件を見積確認に含められます。
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