OTF-PECVD-RF RF Plasma Generator for Tube Furnaces
An RF generator and matching assembly for adding plasma processing to compatible tube furnaces, supporting laboratory etching, cleaning and plasma-assisted deposition.
- Configuração final confirmada antes da cotação
- Personalização e acessórios revisados pela aplicação
- Embalagem de exportação e documentação disponíveis sob solicitação
Especificações técnicas
As especificações são organizadas por sistema para que diferentes tipos de equipamento apresentem os parâmetros relevantes para sua aplicação.
Key specifications
| Output power | 5–300 W; ±1% stability |
|---|---|
| RF frequency | 13.56 MHz; ±0.005% stability |
| Impedance matching | Automatic |
| Tube diameter options | 50, 80 or 125 mm OD |
| Power supply | 208–240 V AC; 50/60 Hz |
As especificações podem mudar conforme configuração e personalização. Os dados finais dependem da cotação confirmada.
Descrição do produto
Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.
Para compradores internacionais, a confirmação pode incluir configuração, acessórios, embalagem, documentos de exportação, fotos ou vídeos de inspeção e termos de envio.
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