الترسيب الكيميائي المعزز بالبلازما (PECVD)

OTF-PECVD-RF RF Plasma Generator for Tube Furnaces

Name: OTF-PECVD-RF RF Plasma Generator for Tube Furnaces | LabSova
Brand: LabSova
SKU: OTF-PECVD-RF

النموذجOTF-PECVD-RF

An RF generator and matching assembly for adding plasma processing to compatible tube furnaces, supporting laboratory etching, cleaning and plasma-assisted deposition.

Output power 5–300 W; ±1% stability

RF frequency 13.56 MHz; ±0.005% stability

Impedance matching Automatic

طلب عرض سعر عرض المواصفات

يتم تأكيد التكوين النهائي قبل عرض السعر
تتم مراجعة التخصيص والملحقات حسب التطبيق
تتوفر تعبئة التصدير والوثائق عند الطلب

اتصال فني مباشر

Email [email protected] WhatsApp +86 195 2233 7956 WeChat 195 2233 7956

بيانات فنية

المواصفات الفنية

تُنظم المواصفات حسب النظام حتى تعرض أنواع المعدات المختلفة المعايير المهمة لتطبيقها.

Key specifications

Output power	5–300 W; ±1% stability
RF frequency	13.56 MHz; ±0.005% stability
Impedance matching	Automatic
Tube diameter options	50, 80 or 125 mm OD
Power supply	208–240 V AC; 50/60 Hz

قد تتغير المواصفات حسب التكوين والتخصيص. تخضع البيانات النهائية للعرض المؤكد.

وصف المنتج

Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.

استفسار المنتج