الترسيب الكيميائي المعزز بالبلازما (PECVD)

OTF-1200X-PEC4LV Four-Gas PECVD Tube Furnace

Name: OTF-1200X-PEC4LV Four-Gas PECVD Tube Furnace | LabSova
Brand: LabSova
SKU: OTF-1200X-PEC4LV

النموذجOTF-1200X-PEC4LV

A compact split-tube PECVD system for thin films and nanowire research, with adjustable RF power, four-gas mixing and integrated mechanical vacuum.

Operating temperature 1100 °C continuous; 1200 °C for <60 min

Heating zone 440 mm; uniform zone 150 mm

Quartz tube options 2 or 3.14 in OD; 48 in length

طلب عرض سعر عرض المواصفات

يتم تأكيد التكوين النهائي قبل عرض السعر
تتم مراجعة التخصيص والملحقات حسب التطبيق
تتوفر تعبئة التصدير والوثائق عند الطلب

اتصال فني مباشر

Email [email protected] WhatsApp +86 195 2233 7956 WeChat 195 2233 7956

بيانات فنية

المواصفات الفنية

تُنظم المواصفات حسب النظام حتى تعرض أنواع المعدات المختلفة المعايير المهمة لتطبيقها.

Key specifications

Operating temperature	1100 °C continuous; 1200 °C for <60 min
Heating zone	440 mm; uniform zone 150 mm
Quartz tube options	2 or 3.14 in OD; 48 in length
RF plasma source	5–300 W; 13.56 MHz
Gas control	4 MFC channels; touchscreen control

قد تتغير المواصفات حسب التكوين والتخصيص. تخضع البيانات النهائية للعرض المؤكد.

وصف المنتج

Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.

استفسار المنتج