الترسيب الكيميائي المعزز بالبلازما (PECVD)

OTF-1200X-S-II-PEC4 Compact Rotary Hybrid Plasma CVD System

Name: OTF-1200X-S-II-PEC4 Compact Rotary Hybrid Plasma CVD System | LabSova
Brand: LabSova
SKU: OTF-1200X-S-II-PEC4

النموذجOTF-1200X-S-II-PEC4

A short-zone rotary furnace integrates solid-source evaporation, RF plasma and four-gas mixing for powder coating studies at continuous temperatures up to 1000 °C.

Operating temperature 1000 °C continuous; 1100 °C for <1 h

Heating zones 2 x 100 mm

RF plasma source 5–300 W; 13.56 MHz

طلب عرض سعر عرض المواصفات

يتم تأكيد التكوين النهائي قبل عرض السعر
تتم مراجعة التخصيص والملحقات حسب التطبيق
تتوفر تعبئة التصدير والوثائق عند الطلب

اتصال فني مباشر

Email [email protected] WhatsApp +86 195 2233 7956 WeChat 195 2233 7956

بيانات فنية

المواصفات الفنية

تُنظم المواصفات حسب النظام حتى تعرض أنواع المعدات المختلفة المعايير المهمة لتطبيقها.

Key specifications

Operating temperature	1000 °C continuous; 1100 °C for <1 h
Heating zones	2 x 100 mm
RF plasma source	5–300 W; 13.56 MHz
Source crucible	0.7 mL alumina crucible with tungsten heater
Gas control	4 MFC channels: 0–100, 0–200, 0–200, 0–500 sccm

قد تتغير المواصفات حسب التكوين والتخصيص. تخضع البيانات النهائية للعرض المؤكد.

وصف المنتج

Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.

استفسار المنتج