OTF-1200X-S-II-PEC4 Compact Rotary Hybrid Plasma CVD System
A short-zone rotary furnace integrates solid-source evaporation, RF plasma and four-gas mixing for powder coating studies at continuous temperatures up to 1000 °C.
- Configuration finale confirmée avant devis
- Personnalisation et accessoires étudiés selon l’application
- Emballage export et documentation disponibles sur demande
Spécifications techniques
Les spécifications sont organisées par système afin de présenter les paramètres pertinents pour chaque équipement.
Key specifications
| Operating temperature | 1000 °C continuous; 1100 °C for <1 h |
|---|---|
| Heating zones | 2 x 100 mm |
| RF plasma source | 5–300 W; 13.56 MHz |
| Source crucible | 0.7 mL alumina crucible with tungsten heater |
| Gas control | 4 MFC channels: 0–100, 0–200, 0–200, 0–500 sccm |
Les spécifications peuvent varier selon la configuration. Les données finales dépendent du devis confirmé.
Description du produit
Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.
Pour les acheteurs internationaux, la confirmation du devis peut inclure configuration, accessoires, emballage, documents export, photos ou vidéos d’inspection et conditions d’expédition.
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