OTF-1200X-III-R5-PECVD Continuous-Feed Rotary Powder PECVD Furnace
A rotary plasma CVD furnace with automatic powder dosing and sealed collection for surface coating and core-shell particle research. Rotation and tilt control powder movement through the hot zone.
- Configuration finale confirmée avant devis
- Personnalisation et accessoires étudiés selon l’application
- Emballage export et documentation disponibles sur demande
Spécifications techniques
Les spécifications sont organisées par système afin de présenter les paramètres pertinents pour chaque équipement.
Key specifications
| Operating temperature | Working ≤1100 °C; maximum 1200 °C |
|---|---|
| Heating zones | 150 + 300 + 150 mm |
| Rotation and tilt | 2–10 rpm; 0–15° |
| Powder capacity | 5 L tumbling volume; recommended loading 1–1.25 L |
| RF plasma source | 5–300 W; 13.56 MHz |
| Powder feed rate | 0–97 mL/min, estimated |
Les spécifications peuvent varier selon la configuration. Les données finales dépendent du devis confirmé.
Description du produit
Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.
Pour les acheteurs internationaux, la confirmation du devis peut inclure configuration, accessoires, emballage, documents export, photos ou vidéos d’inspection et conditions d’expédition.
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