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CVD assisté par plasma (PECVD)

OTF-1200X-II-50-PEMSL Auto-Sliding PECVD Furnace with Preheater

ModèleOTF-1200X-II-50-PEMSL

A dual-zone plasma CVD platform with a separate precursor preheater and programmable furnace travel, suitable for vapor delivery and rapid sample exposure studies.

Continuous temperature 1100 °C
Heating zones 2 x 200 mm; 250 mm uniform zone at equal settings
RF plasma source 5–300 W; 13.56 MHz
  • Configuration finale confirmée avant devis
  • Personnalisation et accessoires étudiés selon l’application
  • Emballage export et documentation disponibles sur demande
Données techniques

Spécifications techniques

Les spécifications sont organisées par système afin de présenter les paramètres pertinents pour chaque équipement.

Key specifications

Continuous temperature 1100 °C
Heating zones 2 x 200 mm; 250 mm uniform zone at equal settings
RF plasma source 5–300 W; 13.56 MHz
Quartz tube 50 mm OD x 44 mm ID x 2200 mm L
Sliding speed 0–70 mm/s

Les spécifications peuvent varier selon la configuration. Les données finales dépendent du devis confirmé.

Description du produit

Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.