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等离子增强 CVD(PECVD)

OTF-1200X-II-50-PEMSL 带预热器的自动滑动 PECVD 炉

型号OTF-1200X-II-50-PEMSL

双温区等离子 CVD 平台配独立前驱体预热器和可编程炉体移动,用于蒸气供给与样品快速热暴露研究。

连续工作温度 1100 °C
加热区 2 × 200 mm;同温设定下均温区 250 mm
射频等离子源 5–300 W; 13.56 MHz
  • 报价前确认最终配置
  • 根据应用确认定制和附件
  • 可按需提供出口包装与文件
技术数据

技术规格

规格按系统分组,便于不同设备展示与其应用相关的重要参数。

主要参数

连续工作温度 1100 °C
加热区 2 × 200 mm;同温设定下均温区 250 mm
射频等离子源 5–300 W; 13.56 MHz
石英管 外径 50 × 内径 44 × 长 2200 mm
滑动速度 0–70 mm/s

规格可能随配置和定制要求变化,最终数据以确认后的报价为准。

产品详情

订购前请与 LabSova 确认前驱体或样品兼容性、炉管及法兰配置、气体、抽气、冷却、排风和供电要求。图片可能包含选配附件,供货以双方确认配置为准。温度额定值不代表该温度下允许任意真空或压力条件。