等离子增强 CVD（PECVD）
OTF1200XSDFPESL 双滑动 PECVD 沉积炉
型号OTF1200XSDFPESL
两个可移动加热模块与射频等离子源共用长石英处理管，可灵活设置前驱体区和沉积区位置。
工作温度
连续 1100 °C；1200 °C 使用少于 1 小时
加热段
2 × 200 mm
石英管
外径 50 × 内径 44 × 长 1500 mm
- 报价前确认最终配置
- 根据应用确认定制和附件
- 可按需提供出口包装与文件
技术数据
技术规格
规格按系统分组，便于不同设备展示与其应用相关的重要参数。
主要参数
| 工作温度 | 连续 1100 °C；1200 °C 使用少于 1 小时 |
|---|---|
| 加热段 | 2 × 200 mm |
| 石英管 | 外径 50 × 内径 44 × 长 1500 mm |
| 射频等离子源 | 5–300 W; 13.56 MHz |
| 滑轨长度 | 1200 mm |
规格可能随配置和定制要求变化，最终数据以确认后的报价为准。
产品详情
订购前请与 LabSova 确认前驱体或样品兼容性、炉管及法兰配置、气体、抽气、冷却、排风和供电要求。图片可能包含选配附件，供货以双方确认配置为准。温度额定值不代表该温度下允许任意真空或压力条件。
采购细节可在下单前确认。
确认需求
面向国际买家，报价确认可包含配置、附件、包装方式、出口文件、验货照片或视频以及运输条款。
相关设备
