OTF1200XSDFPESL Dual-Sliding PECVD Deposition Furnace
Two movable heating modules and an RF plasma source share a long quartz process tube, allowing flexible placement of precursor and deposition zones.
- Configuração final confirmada antes da cotação
- Personalização e acessórios revisados pela aplicação
- Embalagem de exportação e documentação disponíveis sob solicitação
Especificações técnicas
As especificações são organizadas por sistema para que diferentes tipos de equipamento apresentem os parâmetros relevantes para sua aplicação.
Key specifications
| Operating temperature | 1100 °C continuous; 1200 °C for <1 h |
|---|---|
| Heating sections | 2 x 200 mm |
| Quartz tube | 50 mm OD x 44 mm ID x 1500 mm L |
| RF plasma source | 5–300 W; 13.56 MHz |
| Sliding rail length | 1200 mm |
As especificações podem mudar conforme configuração e personalização. Os dados finais dependem da cotação confirmada.
Descrição do produto
Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.
Para compradores internacionais, a confirmação pode incluir configuração, acessórios, embalagem, documentos de exportação, fotos ou vídeos de inspeção e termos de envio.
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