Fornecimento B2B de equipamentos de laboratório Coordenação de fornecedores · Esclarecimento técnico · Suporte à exportação
CVD assistida por plasma (PECVD)

OTF-1200X-S-II-PECVD Compact Rotary Powder PECVD Furnace

ModeloOTF-1200X-S-II-PECVD

A two-zone rotary PECVD system keeps powders moving during plasma-assisted heating for surface treatment and coating research. Rotation and flange options require configuration confirmation.

Operating temperature 1000 °C continuous; 1100 °C for <1 h
Heating zones 2 x 100 mm; 200 mm total
RF plasma source 5–300 W; 13.56 MHz
  • Configuração final confirmada antes da cotação
  • Personalização e acessórios revisados pela aplicação
  • Embalagem de exportação e documentação disponíveis sob solicitação
Dados técnicos

Especificações técnicas

As especificações são organizadas por sistema para que diferentes tipos de equipamento apresentem os parâmetros relevantes para sua aplicação.

Key specifications

Operating temperature 1000 °C continuous; 1100 °C for <1 h
Heating zones 2 x 100 mm; 200 mm total
RF plasma source 5–300 W; 13.56 MHz
Temperature control 2 independent 30-segment programs; ±1 °C
Furnace power 208–240 V AC, single phase; 1.5 kW max

As especificações podem mudar conforme configuração e personalização. Os dados finais dependem da cotação confirmada.

Descrição do produto

Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.