OTF-1200X-S-II-PECVD Compact Rotary Powder PECVD Furnace
A two-zone rotary PECVD system keeps powders moving during plasma-assisted heating for surface treatment and coating research. Rotation and flange options require configuration confirmation.
- Финальная конфигурация подтверждается до предложения
- Настройка и аксессуары проверяются по применению
- Экспортная упаковка и документация доступны по запросу
Технические спецификации
Спецификации организованы по системам, чтобы разные типы оборудования показывали важные для применения параметры.
Key specifications
| Operating temperature | 1000 °C continuous; 1100 °C for <1 h |
|---|---|
| Heating zones | 2 x 100 mm; 200 mm total |
| RF plasma source | 5–300 W; 13.56 MHz |
| Temperature control | 2 independent 30-segment programs; ±1 °C |
| Furnace power | 208–240 V AC, single phase; 1.5 kW max |
Спецификации могут изменяться в зависимости от конфигурации и настройки. Окончательные данные зависят от подтвержденного предложения.
Описание товара
Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.
Для международных покупателей подтверждение может включать конфигурацию, аксессуары, упаковку, экспортные документы, фото или видео инспекции и условия доставки.
Больше из этой категории
OTF-1200X-II-PEC4 Rotary Plasma-Enhanced Hybrid CVD Furnace
OTF-1200X-S50-PESL Compact Sliding PECVD Tube Furnace
OTF1200XSDFPESL Dual-Sliding PECVD Deposition Furnace
OTF-1200X-II-50-PEMSL Auto-Sliding PECVD Furnace with Preheater
OTF-1200X-II-PEC4SL-LD Sliding Multi-Zone PECVD Workstation
OTF-1200X-PEC4LV Four-Gas PECVD Tube Furnace
OTF-1200X-III-R5-PECVD Continuous-Feed Rotary Powder PECVD Furnace
