OTF-1200X-S-II-PECVD Compact Rotary Powder PECVD Furnace
A two-zone rotary PECVD system keeps powders moving during plasma-assisted heating for surface treatment and coating research. Rotation and flange options require configuration confirmation.
- Endkonfiguration vor Angebot bestätigt
- Anpassung und Zubehör nach Anwendung geprüft
- Exportverpackung und Dokumentation auf Anfrage verfügbar
Technische Spezifikationen
Spezifikationen sind nach System organisiert, damit unterschiedliche Gerätetypen die für ihre Anwendung relevanten Parameter darstellen können.
Key specifications
| Operating temperature | 1000 °C continuous; 1100 °C for <1 h |
|---|---|
| Heating zones | 2 x 100 mm; 200 mm total |
| RF plasma source | 5–300 W; 13.56 MHz |
| Temperature control | 2 independent 30-segment programs; ±1 °C |
| Furnace power | 208–240 V AC, single phase; 1.5 kW max |
Spezifikationen können sich je nach Konfiguration und Anpassung ändern. Endgültige Daten unterliegen dem bestätigten Angebot.
Produktbeschreibung
Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.
Für internationale Käufer kann die Angebotsbestätigung Konfiguration, Zubehör, Verpackung, Exportdokumente, Inspektionsfotos oder -videos und Versandbedingungen umfassen.
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