B2B-Beschaffung von Laborgeräten Lieferantenkoordination · Technische Klärung · Exportunterstützung
Plasmaunterstützte CVD (PECVD)

OTF-1200X-II-PEC4 Rotary Plasma-Enhanced Hybrid CVD Furnace

ModellOTF-1200X-II-PEC4

A rotary two-zone furnace combines RF plasma, solid-source evaporation and four-gas delivery for powder surface-coating research. Tube, drive and flange configurations are confirmed per order.

Operating temperature 1100 °C continuous; 1200 °C for <1 h
Heating zones 2 x 200 mm; 400 mm total
RF plasma source 5–300 W; 13.56 MHz
  • Endkonfiguration vor Angebot bestätigt
  • Anpassung und Zubehör nach Anwendung geprüft
  • Exportverpackung und Dokumentation auf Anfrage verfügbar
Technische Daten

Technische Spezifikationen

Spezifikationen sind nach System organisiert, damit unterschiedliche Gerätetypen die für ihre Anwendung relevanten Parameter darstellen können.

Key specifications

Operating temperature 1100 °C continuous; 1200 °C for <1 h
Heating zones 2 x 200 mm; 400 mm total
RF plasma source 5–300 W; 13.56 MHz
Gas control 4 MFC channels: 0–100, 0–200, 0–200, 0–500 sccm
Evaporation source 0.7 mL alumina crucible; 500 W DC supply

Spezifikationen können sich je nach Konfiguration und Anpassung ändern. Endgültige Daten unterliegen dem bestätigten Angebot.

Produktbeschreibung

Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.