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CVD assistida por plasma (PECVD)

OTF-1200X-II-PEC4 Rotary Plasma-Enhanced Hybrid CVD Furnace

ModeloOTF-1200X-II-PEC4

A rotary two-zone furnace combines RF plasma, solid-source evaporation and four-gas delivery for powder surface-coating research. Tube, drive and flange configurations are confirmed per order.

Operating temperature 1100 °C continuous; 1200 °C for <1 h
Heating zones 2 x 200 mm; 400 mm total
RF plasma source 5–300 W; 13.56 MHz
  • Configuração final confirmada antes da cotação
  • Personalização e acessórios revisados pela aplicação
  • Embalagem de exportação e documentação disponíveis sob solicitação
Dados técnicos

Especificações técnicas

As especificações são organizadas por sistema para que diferentes tipos de equipamento apresentem os parâmetros relevantes para sua aplicação.

Key specifications

Operating temperature 1100 °C continuous; 1200 °C for <1 h
Heating zones 2 x 200 mm; 400 mm total
RF plasma source 5–300 W; 13.56 MHz
Gas control 4 MFC channels: 0–100, 0–200, 0–200, 0–500 sccm
Evaporation source 0.7 mL alumina crucible; 500 W DC supply

As especificações podem mudar conforme configuração e personalização. Os dados finais dependem da cotação confirmada.

Descrição do produto

Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.