OTF-1200X-III-R5-PECVD Continuous-Feed Rotary Powder PECVD Furnace
A rotary plasma CVD furnace with automatic powder dosing and sealed collection for surface coating and core-shell particle research. Rotation and tilt control powder movement through the hot zone.
- Configuração final confirmada antes da cotação
- Personalização e acessórios revisados pela aplicação
- Embalagem de exportação e documentação disponíveis sob solicitação
Especificações técnicas
As especificações são organizadas por sistema para que diferentes tipos de equipamento apresentem os parâmetros relevantes para sua aplicação.
Key specifications
| Operating temperature | Working ≤1100 °C; maximum 1200 °C |
|---|---|
| Heating zones | 150 + 300 + 150 mm |
| Rotation and tilt | 2–10 rpm; 0–15° |
| Powder capacity | 5 L tumbling volume; recommended loading 1–1.25 L |
| RF plasma source | 5–300 W; 13.56 MHz |
| Powder feed rate | 0–97 mL/min, estimated |
As especificações podem mudar conforme configuração e personalização. Os dados finais dependem da cotação confirmada.
Descrição do produto
Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.
Para compradores internacionais, a confirmação pode incluir configuração, acessórios, embalagem, documentos de exportação, fotos ou vídeos de inspeção e termos de envio.
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