Categoria de equipamento
CVD assistida por plasma (PECVD)
Fornos de plasma, sistemas rotativos para pós, reatores para wafers e fontes RF.
12 produtos disponíveis
OTF-1200X-II-PEC4 Rotary Plasma-Enhanced Hybrid CVD Furnace
OTF-1200X-S50-PESL Compact Sliding PECVD Tube Furnace
OTF-1200X-S-II-PECVD Compact Rotary Powder PECVD Furnace
OTF1200XSDFPESL Dual-Sliding PECVD Deposition Furnace
OTF-1200X-II-50-PEMSL Auto-Sliding PECVD Furnace with Preheater
OTF-1200X-II-PEC4SL-LD Sliding Multi-Zone PECVD Workstation
OTF-1200X-PEC4LV Four-Gas PECVD Tube Furnace
OTF-1200X-III-R5-PECVD Continuous-Feed Rotary Powder PECVD Furnace
OTF-1200X-S-II-PEC4 Compact Rotary Hybrid Plasma CVD System
OTF-1200X-II-PE-RR Roll-to-Roll Plasma CVD Furnace
PECVD-8-16 Batch Wafer PECVD Pilot System
OTF-PECVD-RF RF Plasma Generator for Tube Furnaces
Como comparar esta categoria
Comece pelo requisito de processo e compare faixa operacional, tamanho da câmara ou área de trabalho, precisão, acessórios, utilidades e restrições de envio.
- Confirme material, tamanho da amostra e resultado alvo.
- Verifique tensão, espaço de instalação e utilidades.
- Solicite acessórios, peças sobressalentes, embalagem e documentação.