Catégorie d’équipement
CVD assisté par plasma (PECVD)
Fours à plasma, systèmes rotatifs pour poudres, réacteurs pour plaquettes et sources RF.
12 produits disponibles
OTF-1200X-II-PEC4 Rotary Plasma-Enhanced Hybrid CVD Furnace
OTF-1200X-S50-PESL Compact Sliding PECVD Tube Furnace
OTF-1200X-S-II-PECVD Compact Rotary Powder PECVD Furnace
OTF1200XSDFPESL Dual-Sliding PECVD Deposition Furnace
OTF-1200X-II-50-PEMSL Auto-Sliding PECVD Furnace with Preheater
OTF-1200X-II-PEC4SL-LD Sliding Multi-Zone PECVD Workstation
OTF-1200X-PEC4LV Four-Gas PECVD Tube Furnace
OTF-1200X-III-R5-PECVD Continuous-Feed Rotary Powder PECVD Furnace
OTF-1200X-S-II-PEC4 Compact Rotary Hybrid Plasma CVD System
OTF-1200X-II-PE-RR Roll-to-Roll Plasma CVD Furnace
PECVD-8-16 Batch Wafer PECVD Pilot System
OTF-PECVD-RF RF Plasma Generator for Tube Furnaces
Comment comparer cette catégorie
Commencez par le besoin procédé, puis comparez la plage de fonctionnement, la taille de chambre ou de travail, la précision de contrôle, les accessoires, les utilités et les contraintes d’expédition.
- Confirmez le matériau, la taille d’échantillon et le résultat cible.
- Vérifiez la tension, l’espace d’installation et les utilités.
- Demandez les accessoires, pièces de rechange, emballage et documents inclus.