OTF-1200X-II-PE-RR Roll-to-Roll Plasma CVD Furnace
A continuous-substrate PECVD platform guides foil or wire between sealed chambers while controlling plasma power, transport speed and tension for film-growth research.
- Configuration finale confirmée avant devis
- Personnalisation et accessoires étudiés selon l’application
- Emballage export et documentation disponibles sur demande
Spécifications techniques
Les spécifications sont organisées par système afin de présenter les paramètres pertinents pour chaque équipement.
Key specifications
| Operating temperature | 1100 °C continuous; 1200 °C for <60 min |
|---|---|
| Quartz tube | 80 mm OD x 72 mm ID x 1400 mm L |
| RF plasma source | 5–300 W; 13.56 MHz |
| Transport speed and width | 1–400 mm/min; up to 65 mm width with 80 mm tube |
| Tension control | 0–1000 g |
Les spécifications peuvent varier selon la configuration. Les données finales dépendent du devis confirmé.
Description du produit
Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.
Pour les acheteurs internationaux, la confirmation du devis peut inclure configuration, accessoires, emballage, documents export, photos ou vidéos d’inspection et conditions d’expédition.
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