الترسيب الكيميائي المعزز بالبلازما (PECVD)

OTF-1200X-II-PE-RR Roll-to-Roll Plasma CVD Furnace

Name: OTF-1200X-II-PE-RR Roll-to-Roll Plasma CVD Furnace | LabSova
Brand: LabSova
SKU: OTF-1200X-II-PE-RR

النموذجOTF-1200X-II-PE-RR

A continuous-substrate PECVD platform guides foil or wire between sealed chambers while controlling plasma power, transport speed and tension for film-growth research.

Operating temperature 1100 °C continuous; 1200 °C for <60 min

Quartz tube 80 mm OD x 72 mm ID x 1400 mm L

RF plasma source 5–300 W; 13.56 MHz

طلب عرض سعر عرض المواصفات

يتم تأكيد التكوين النهائي قبل عرض السعر
تتم مراجعة التخصيص والملحقات حسب التطبيق
تتوفر تعبئة التصدير والوثائق عند الطلب

اتصال فني مباشر

Email [email protected] WhatsApp +86 195 2233 7956 WeChat 195 2233 7956

بيانات فنية

المواصفات الفنية

تُنظم المواصفات حسب النظام حتى تعرض أنواع المعدات المختلفة المعايير المهمة لتطبيقها.

Key specifications

Operating temperature	1100 °C continuous; 1200 °C for <60 min
Quartz tube	80 mm OD x 72 mm ID x 1400 mm L
RF plasma source	5–300 W; 13.56 MHz
Transport speed and width	1–400 mm/min; up to 65 mm width with 80 mm tube
Tension control	0–1000 g

قد تتغير المواصفات حسب التكوين والتخصيص. تخضع البيانات النهائية للعرض المؤكد.

وصف المنتج

Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.

استفسار المنتج