الترسيب الكيميائي المعزز بالبلازما (PECVD)

OTF1200XSDFPESL Dual-Sliding PECVD Deposition Furnace

Name: OTF1200XSDFPESL Dual-Sliding PECVD Deposition Furnace | LabSova
Brand: LabSova
SKU: OTF1200XSDFPESL

النموذجOTF1200XSDFPESL

Two movable heating modules and an RF plasma source share a long quartz process tube, allowing flexible placement of precursor and deposition zones.

Operating temperature 1100 °C continuous; 1200 °C for <1 h

Heating sections 2 x 200 mm

Quartz tube 50 mm OD x 44 mm ID x 1500 mm L

طلب عرض سعر عرض المواصفات

يتم تأكيد التكوين النهائي قبل عرض السعر
تتم مراجعة التخصيص والملحقات حسب التطبيق
تتوفر تعبئة التصدير والوثائق عند الطلب

اتصال فني مباشر

Email [email protected] WhatsApp +86 195 2233 7956 WeChat 195 2233 7956

بيانات فنية

المواصفات الفنية

تُنظم المواصفات حسب النظام حتى تعرض أنواع المعدات المختلفة المعايير المهمة لتطبيقها.

Key specifications

Operating temperature	1100 °C continuous; 1200 °C for <1 h
Heating sections	2 x 200 mm
Quartz tube	50 mm OD x 44 mm ID x 1500 mm L
RF plasma source	5–300 W; 13.56 MHz
Sliding rail length	1200 mm

قد تتغير المواصفات حسب التكوين والتخصيص. تخضع البيانات النهائية للعرض المؤكد.

وصف المنتج

Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.

استفسار المنتج