OTF1200XSDFPESL Dual-Sliding PECVD Deposition Furnace
Two movable heating modules and an RF plasma source share a long quartz process tube, allowing flexible placement of precursor and deposition zones.
- Configuración final confirmada antes de cotizar
- Personalización y accesorios revisados según la aplicación
- Embalaje de exportación y documentación disponibles bajo solicitud
Especificaciones técnicas
Las especificaciones se organizan por sistema para que diferentes tipos de equipos presenten los parámetros relevantes para su aplicación.
Key specifications
| Operating temperature | 1100 °C continuous; 1200 °C for <1 h |
|---|---|
| Heating sections | 2 x 200 mm |
| Quartz tube | 50 mm OD x 44 mm ID x 1500 mm L |
| RF plasma source | 5–300 W; 13.56 MHz |
| Sliding rail length | 1200 mm |
Las especificaciones pueden cambiar según configuración y personalización. Los datos finales están sujetos a la cotización confirmada.
Descripción del producto
Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.
Para compradores internacionales, la confirmación puede incluir configuración, accesorios, embalaje, documentos de exportación, fotos o videos de inspección y términos de envío.
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