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CVD asistida por plasma (PECVD)

OTF-1200X-S-II-PEC4 Compact Rotary Hybrid Plasma CVD System

ModeloOTF-1200X-S-II-PEC4

A short-zone rotary furnace integrates solid-source evaporation, RF plasma and four-gas mixing for powder coating studies at continuous temperatures up to 1000 °C.

Operating temperature 1000 °C continuous; 1100 °C for <1 h
Heating zones 2 x 100 mm
RF plasma source 5–300 W; 13.56 MHz
  • Configuración final confirmada antes de cotizar
  • Personalización y accesorios revisados según la aplicación
  • Embalaje de exportación y documentación disponibles bajo solicitud
Datos técnicos

Especificaciones técnicas

Las especificaciones se organizan por sistema para que diferentes tipos de equipos presenten los parámetros relevantes para su aplicación.

Key specifications

Operating temperature 1000 °C continuous; 1100 °C for <1 h
Heating zones 2 x 100 mm
RF plasma source 5–300 W; 13.56 MHz
Source crucible 0.7 mL alumina crucible with tungsten heater
Gas control 4 MFC channels: 0–100, 0–200, 0–200, 0–500 sccm

Las especificaciones pueden cambiar según configuración y personalización. Los datos finales están sujetos a la cotización confirmada.

Descripción del producto

Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.