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CVD assistida por plasma (PECVD)

OTF-1200X-S-II-PEC4 Compact Rotary Hybrid Plasma CVD System

ModeloOTF-1200X-S-II-PEC4

A short-zone rotary furnace integrates solid-source evaporation, RF plasma and four-gas mixing for powder coating studies at continuous temperatures up to 1000 °C.

Operating temperature 1000 °C continuous; 1100 °C for <1 h
Heating zones 2 x 100 mm
RF plasma source 5–300 W; 13.56 MHz
  • Configuração final confirmada antes da cotação
  • Personalização e acessórios revisados pela aplicação
  • Embalagem de exportação e documentação disponíveis sob solicitação
Dados técnicos

Especificações técnicas

As especificações são organizadas por sistema para que diferentes tipos de equipamento apresentem os parâmetros relevantes para sua aplicação.

Key specifications

Operating temperature 1000 °C continuous; 1100 °C for <1 h
Heating zones 2 x 100 mm
RF plasma source 5–300 W; 13.56 MHz
Source crucible 0.7 mL alumina crucible with tungsten heater
Gas control 4 MFC channels: 0–100, 0–200, 0–200, 0–500 sccm

As especificações podem mudar conforme configuração e personalização. Os dados finais dependem da cotação confirmada.

Descrição do produto

Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.