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CVD asistida por plasma (PECVD)

OTF-1200X-S-II-PECVD Compact Rotary Powder PECVD Furnace

ModeloOTF-1200X-S-II-PECVD

A two-zone rotary PECVD system keeps powders moving during plasma-assisted heating for surface treatment and coating research. Rotation and flange options require configuration confirmation.

Operating temperature 1000 °C continuous; 1100 °C for <1 h
Heating zones 2 x 100 mm; 200 mm total
RF plasma source 5–300 W; 13.56 MHz
  • Configuración final confirmada antes de cotizar
  • Personalización y accesorios revisados según la aplicación
  • Embalaje de exportación y documentación disponibles bajo solicitud
Datos técnicos

Especificaciones técnicas

Las especificaciones se organizan por sistema para que diferentes tipos de equipos presenten los parámetros relevantes para su aplicación.

Key specifications

Operating temperature 1000 °C continuous; 1100 °C for <1 h
Heating zones 2 x 100 mm; 200 mm total
RF plasma source 5–300 W; 13.56 MHz
Temperature control 2 independent 30-segment programs; ±1 °C
Furnace power 208–240 V AC, single phase; 1.5 kW max

Las especificaciones pueden cambiar según configuración y personalización. Los datos finales están sujetos a la cotización confirmada.

Descripción del producto

Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.