OTF-1200X-S-II-PECVD Compact Rotary Powder PECVD Furnace
A two-zone rotary PECVD system keeps powders moving during plasma-assisted heating for surface treatment and coating research. Rotation and flange options require configuration confirmation.
- Configuration finale confirmée avant devis
- Personnalisation et accessoires étudiés selon l’application
- Emballage export et documentation disponibles sur demande
Spécifications techniques
Les spécifications sont organisées par système afin de présenter les paramètres pertinents pour chaque équipement.
Key specifications
| Operating temperature | 1000 °C continuous; 1100 °C for <1 h |
|---|---|
| Heating zones | 2 x 100 mm; 200 mm total |
| RF plasma source | 5–300 W; 13.56 MHz |
| Temperature control | 2 independent 30-segment programs; ±1 °C |
| Furnace power | 208–240 V AC, single phase; 1.5 kW max |
Les spécifications peuvent varier selon la configuration. Les données finales dépendent du devis confirmé.
Description du produit
Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.
Pour les acheteurs internationaux, la confirmation du devis peut inclure configuration, accessoires, emballage, documents export, photos ou vidéos d’inspection et conditions d’expédition.
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