OTF-1200X-II-PE-RR Roll-to-Roll Plasma CVD Furnace
A continuous-substrate PECVD platform guides foil or wire between sealed chambers while controlling plasma power, transport speed and tension for film-growth research.
- Endkonfiguration vor Angebot bestätigt
- Anpassung und Zubehör nach Anwendung geprüft
- Exportverpackung und Dokumentation auf Anfrage verfügbar
Technische Spezifikationen
Spezifikationen sind nach System organisiert, damit unterschiedliche Gerätetypen die für ihre Anwendung relevanten Parameter darstellen können.
Key specifications
| Operating temperature | 1100 °C continuous; 1200 °C for <60 min |
|---|---|
| Quartz tube | 80 mm OD x 72 mm ID x 1400 mm L |
| RF plasma source | 5–300 W; 13.56 MHz |
| Transport speed and width | 1–400 mm/min; up to 65 mm width with 80 mm tube |
| Tension control | 0–1000 g |
Spezifikationen können sich je nach Konfiguration und Anpassung ändern. Endgültige Daten unterliegen dem bestätigten Angebot.
Produktbeschreibung
Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.
Für internationale Käufer kann die Angebotsbestätigung Konfiguration, Zubehör, Verpackung, Exportdokumente, Inspektionsfotos oder -videos und Versandbedingungen umfassen.
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