Gerätekategorie
Chemische Gasphasenabscheidung (CVD)
Rohröfen, Mist-CVD-Anlagen und Präkursorversorgung für die Beschichtungsforschung.
29 verfügbare Produkte
OTF1200XSF2 Compact Two-Gas CVD Tube Furnace
OTF-1200X-S-Mist Compact Ultrasonic Mist CVD Furnace
OTF-1200X-Mist Four-Gas Mist CVD Growth Furnace
OTF1200XIII-PGEP Three-Zone Ultrasonic Spray Pyrolysis System
OTF-1200X-PGEP Tube-Furnace Spray Pyrolysis System
GSL-1800X-PGEP High-Temperature Spray Pyrolysis Furnace
OTF-1200X-4-NW-UL Solid-Precursor CVD Tube Furnace
OTF-1200X-HVC3-series High-Vacuum CVD Furnace Workstation
OTF-1200X-80-F3LV Single-Zone CVD Furnace with Gas Mixer
OTF-1200X-II-F3LV Dual-Zone CVD Furnace with Three-Gas Control
OTF-1200X-III-80-F3LV Three-Zone CVD Furnace with Gas Mixing
OTF-1200X-III-HVC-LD Three-Zone High-Vacuum CVD Workstation
So vergleichen Sie diese Kategorie
Beginnen Sie mit der Prozessanforderung und vergleichen Sie dann Arbeitsbereich, Kammer- oder Werkstückgröße, Regelgenauigkeit, Zubehör, Medienversorgung und Versandgrenzen.
- Material, Probengröße und Zielergebnis bestätigen.
- Spannung, Installationsfläche und Medienbedarf prüfen.
- Zubehör, Ersatzteile, Verpackung und Dokumentationsumfang anfragen.