OTF-1200X-Mist Four-Gas Mist CVD Growth Furnace
A mist-assisted film-growth furnace with a 400 mm heating zone, ultrasonic atomization and four-channel mass-flow delivery for precursor and carrier-gas studies.
- Endkonfiguration vor Angebot bestätigt
- Anpassung und Zubehör nach Anwendung geprüft
- Exportverpackung und Dokumentation auf Anfrage verfügbar
Technische Spezifikationen
Spezifikationen sind nach System organisiert, damit unterschiedliche Gerätetypen die für ihre Anwendung relevanten Parameter darstellen können.
Key specifications
| Maximum temperature | 1200 °C |
|---|---|
| Heating zone | 400 mm; 125 mm uniform zone |
| Quartz tube | 60 mm OD x 54 mm ID x 1000 mm L |
| Atomization and feed | 1.7 MHz; 0.004–70 mL/min |
| Gas control | 4 MFC channels, 0–500 mL/min; ±0.2% FS |
Spezifikationen können sich je nach Konfiguration und Anpassung ändern. Endgültige Daten unterliegen dem bestätigten Angebot.
Produktbeschreibung
Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.
Für internationale Käufer kann die Angebotsbestätigung Konfiguration, Zubehör, Verpackung, Exportdokumente, Inspektionsfotos oder -videos und Versandbedingungen umfassen.
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