OTF-1200X-Mist Four-Gas Mist CVD Growth Furnace
A mist-assisted film-growth furnace with a 400 mm heating zone, ultrasonic atomization and four-channel mass-flow delivery for precursor and carrier-gas studies.
- Configuración final confirmada antes de cotizar
- Personalización y accesorios revisados según la aplicación
- Embalaje de exportación y documentación disponibles bajo solicitud
Especificaciones técnicas
Las especificaciones se organizan por sistema para que diferentes tipos de equipos presenten los parámetros relevantes para su aplicación.
Key specifications
| Maximum temperature | 1200 °C |
|---|---|
| Heating zone | 400 mm; 125 mm uniform zone |
| Quartz tube | 60 mm OD x 54 mm ID x 1000 mm L |
| Atomization and feed | 1.7 MHz; 0.004–70 mL/min |
| Gas control | 4 MFC channels, 0–500 mL/min; ±0.2% FS |
Las especificaciones pueden cambiar según configuración y personalización. Los datos finales están sujetos a la cotización confirmada.
Descripción del producto
Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.
Para compradores internacionales, la confirmación puede incluir configuración, accesorios, embalaje, documentos de exportación, fotos o videos de inspección y términos de envío.
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