OTF-1200X-S-Mist Compact Ultrasonic Mist CVD Furnace
A short-zone mist CVD platform combining ultrasonic precursor atomization with a heated quartz tube and angled holders for small substrates.
- Configuración final confirmada antes de cotizar
- Personalización y accesorios revisados según la aplicación
- Embalaje de exportación y documentación disponibles bajo solicitud
Especificaciones técnicas
Las especificaciones se organizan por sistema para que diferentes tipos de equipos presenten los parámetros relevantes para su aplicación.
Key specifications
| Maximum temperature | 1200 °C |
|---|---|
| Heating zone | 200 mm; 60 mm uniform zone |
| Quartz tube | 60 mm OD x 55 mm ID x 600 mm L |
| Atomization frequency | 1.7 MHz |
| Liquid feed rate | 0.004–70 mL/min |
| Substrate arrangement | 4 substrates, 10 x 10 x 0.5 mm; 45° holder |
Las especificaciones pueden cambiar según configuración y personalización. Los datos finales están sujetos a la cotización confirmada.
Descripción del producto
Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.
Para compradores internacionales, la confirmación puede incluir configuración, accesorios, embalaje, documentos de exportación, fotos o videos de inspección y términos de envío.
Más de esta categoría
OTF1200XSF2 Compact Two-Gas CVD Tube Furnace
OTF-1200X-Mist Four-Gas Mist CVD Growth Furnace
OTF1200XIII-PGEP Three-Zone Ultrasonic Spray Pyrolysis System
OTF-1200X-PGEP Tube-Furnace Spray Pyrolysis System
GSL-1800X-PGEP High-Temperature Spray Pyrolysis Furnace
OTF-1200X-4-NW-UL Solid-Precursor CVD Tube Furnace
OTF-1200X-HVC3-series High-Vacuum CVD Furnace Workstation
