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化学气相沉积(CVD)

OTF-1200X-S-Mist 紧凑型超声雾化 CVD 炉

型号OTF-1200X-S-Mist

短温区雾化 CVD 平台,将超声前驱体雾化与石英管加热相结合,采用倾斜支架放置小尺寸基片。

最高温度 1200 °C
加热区 200 mm;均温区 60 mm
石英管 外径 60 × 内径 55 × 长 600 mm
  • 报价前确认最终配置
  • 根据应用确认定制和附件
  • 可按需提供出口包装与文件
技术数据

技术规格

规格按系统分组,便于不同设备展示与其应用相关的重要参数。

主要参数

最高温度 1200 °C
加热区 200 mm;均温区 60 mm
石英管 外径 60 × 内径 55 × 长 600 mm
雾化频率 1.7 MHz
供液流量 0.004–70 mL/min
基片配置 4 片 10 × 10 × 0.5 mm 基片;支架倾角 45°

规格可能随配置和定制要求变化,最终数据以确认后的报价为准。

产品详情

订购前请与 LabSova 确认前驱体或样品兼容性、炉管及法兰配置、气体、抽气、冷却、排风和供电要求。图片可能包含选配附件,供货以双方确认配置为准。温度额定值不代表该温度下允许任意真空或压力条件。