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Deposição química de vapor (CVD)

OTF-1200X-S-Mist Compact Ultrasonic Mist CVD Furnace

ModeloOTF-1200X-S-Mist

A short-zone mist CVD platform combining ultrasonic precursor atomization with a heated quartz tube and angled holders for small substrates.

Maximum temperature 1200 °C
Heating zone 200 mm; 60 mm uniform zone
Quartz tube 60 mm OD x 55 mm ID x 600 mm L
  • Configuração final confirmada antes da cotação
  • Personalização e acessórios revisados pela aplicação
  • Embalagem de exportação e documentação disponíveis sob solicitação
Dados técnicos

Especificações técnicas

As especificações são organizadas por sistema para que diferentes tipos de equipamento apresentem os parâmetros relevantes para sua aplicação.

Key specifications

Maximum temperature 1200 °C
Heating zone 200 mm; 60 mm uniform zone
Quartz tube 60 mm OD x 55 mm ID x 600 mm L
Atomization frequency 1.7 MHz
Liquid feed rate 0.004–70 mL/min
Substrate arrangement 4 substrates, 10 x 10 x 0.5 mm; 45° holder

As especificações podem mudar conforme configuração e personalização. Os dados finais dependem da cotação confirmada.

Descrição do produto

Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.