Fornecimento B2B de equipamentos de laboratório Coordenação de fornecedores · Esclarecimento técnico · Suporte à exportação
Deposição química de vapor (CVD)

OTF-1200X-HVC3-series High-Vacuum CVD Furnace Workstation

ModeloOTF-1200X-HVC3-series

A quartz-tube CVD workstation combining programmable heating, three-gas mixing and high-vacuum pumping for deposition, diffusion and atmosphere-controlled thermal processing.

Operating temperature 1100 °C continuous; 1200 °C maximum
Heating zone 440 mm; uniform zone 150 mm (±1 °C)
Temperature program 30 segments; ±1 °C
  • Configuração final confirmada antes da cotação
  • Personalização e acessórios revisados pela aplicação
  • Embalagem de exportação e documentação disponíveis sob solicitação
Dados técnicos

Especificações técnicas

As especificações são organizadas por sistema para que diferentes tipos de equipamento apresentem os parâmetros relevantes para sua aplicação.

Key specifications

Operating temperature 1100 °C continuous; 1200 °C maximum
Heating zone 440 mm; uniform zone 150 mm (±1 °C)
Temperature program 30 segments; ±1 °C
System vacuum Down to 1 x 10^-4 Torr, with specified sealing assembly
Furnace power 208–240 V AC, single phase; 2.5 kW

As especificações podem mudar conforme configuração e personalização. Os dados finais dependem da cotação confirmada.

Descrição do produto

Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.